熱／ＵＶナノインプリントシステムNI-1000

1.　サイズ: 1200x1200x1800(mm)　重さ: 700kg

2.　基本機能

本装置（NI-1000）は、ＵＶナノインプリントの低温プロセスに対応し、真空チャンバー内でサブミクロン単位でのアライメント精度を達成します。ＵＶナノインプリントに求められる均一なＵＶ照射機能を有し、低粘度樹脂に対応する微小圧コントロールが可能で、真空中での気泡噛み込みを防止します。また、種々のオプション設定によりマニュアルからフルオートまで熱／ＵＶ式が選択できます。
Size of wafer and stamper: φ50mm
Temperature: 60~200℃
Imprint pressure :2~2000N
Head feeding resolution: 0.1µm
User interface: Windows based interface

3.　オプション

Alignment: Manual - Precision: ±5µm (Air)
Alignment: Fully automated - Using image processing and piezoelectric actuator - Precision: ±0.5µm (Vacuum)
UV exposure: Uniform exposure by scanning
Vacuum: Vacuum chamber and rotary pump - 5Pa
Turbo molecular pump: 1x30-3Pa
High response/high temperature ceramic heater: 650℃
Soft pressure head: 20g
High pressure head: 10kN

4.　ユーティリティー

Power: 200V 50A
Compressed air: 0.5MPa

デスクトップ型ナノインプリントシステムNI-1075

1.　サイズ: 1290x750x560(mm)突起部含まず 重さ: 約190kg

2.　基本機能

本装置（NI-1075）は、研究開発用小型熱式ナノインプリントプロセス装置で、ナノインプリントプロセスパラメータである金型および基板の温度、金型押し込み荷重、金型押し込み変位の各制御が高精度にでき、成形部を真空チャンバで密閉して真空環境でのナノインプリントプロセスにも対応可能なものです。金型および基板を最高650℃まで加熱できるので、樹脂材料だけでなくガラス材料へのナノインプリントプロセス実験にも応用可能です。
Max. temperature: 650℃
Max. heating time: 10sec. (RT→250℃) or 30sec. (RT→650℃)
Cooling: Natural cooling
Efficient imprint area: 50mmx50mm
Temperature distribution in the heater surface: Max. 1% (200℃)
Max. imprint pressure : 10kN
Head feeding resolution: 0.1µm
Parallelization of the pressurization surface: Manual
Process control: Automatic (lad control and displacement control) and manual

3.　システム構成

本体部: ナノインプリントプロセスを行います。
入力部: プロセス条件の入力、プロセスの実行、停止の指令を行います。また、本体の動作状態をモニタすることができます。本体とは伸縮性専用固定台で一体化されています。
真空ポンプ部（図示なし）: 真空環境でのプロセスに対応するための真空排気装置です。本体の真空チャンバ部と真空チューブで接続されます。

デスクトップ型ナノインプリントシステムNI-273

1.　サイズ: 1290x750x560(mm)突起部含まず 重さ: 約190kg

2.　基本機能

NI-1075に準じます。相違点は以下です。
Efficient imprint area: 25mmx25mm
Max. imprint pressure : 2kN

3.　システム構成

NI-1075に準じます。

ローラ式ナノインプリント装置

1.　サイズ: 750(W)x560(D)x890(H)(mm) 重さ: 200kg

2.　基本仕様

本装置は、高精度の熱式ナノインプリントプロセスを実行することができます。
Max. temperature: 200℃
Max. heating time: 60sec. (RT→200℃)
Cooling: Natural cooling
Efficient imprint area: 85mmx85mm and more
Temperature distribution in the heater surface: Max. 5% (200℃)
Max. imprint pressure : 2kN
Head feeding resolution: 0.1µm
Parallelization of the pressurization surface: Manual
Process control: Automatic (lad control) and manual